「恭喜妳呀，這一段走下來很辛苦，我們知道。
例如，真主黨可以同時部署成群的無人機攻擊單一目標，以壓制以色列的防空系統。這些地道旨在隱藏和掩護武裝分子，使以色列國防軍難以追蹤和找到他們。
儘管如此，真主黨的這些武器數量之多仍能對規模更大、技術更先進的軍隊形成威懾。2021年，真主黨領導人納斯魯拉（Hassan Nasrallah）聲稱該組織擁有10萬名戰士。根據「全球火力指數」，以色列國防軍擁有16萬9500名現役軍人。如果在人口稠密的加薩地帶展開地面行動，真主黨從北部發起進攻的話，將對以色列軍隊構成挑戰。這些軍事資產對嚴重依賴空中優勢的以色列軍隊構成了巨大挑戰。
黎巴嫩激進組織真主黨和以色列國防軍在以色列北部發生的小規模衝突，引發了人們對加薩衝突可能蔓延到另一條戰線的擔憂。但可以肯定的是，這兩個組織在過去幾年中都擴充了武器庫。NVIDIA就是受惠於台積電的無晶圓廠模式，NVIDIA只需要設計晶片，台積電就會製造出來。
在讀這本書之前，我一直有個大問題，相信也是讀者會有的問題，那就是：中國沒辦法自己製造最先進的晶片嗎？為什麼近幾年總是被美國掐脖子？ 看完EUV曝光機的發展就會有頭緒了。如今建立一間先進的邏輯晶片廠至少需要200億美元，很少公司能夠負擔。（這樣想想NVIDIA真像是第一批拿到大祕寶的人）。在上一篇的「光刻技術的地位」這個小節提到，光刻技術的關鍵在於光的波長，波長就像刀片的鋒利程度。
這種轟擊錫滴的過程，每秒重複5萬次，就能產生製造晶片所需的EUV量。2. 記憶體晶片：DRAM和快閃記憶體（NAND）。
因為EUV波長接近X光線，這樣的波長很容易被許多材料給吸收，一般鏡子無法反射。但是，要用上EUV可以說幾乎不可能，原本使用的是顯微鏡、可見光加上柯達的光阻劑，但是要用上EUV的話幾乎所有的元件都必須重新特製。如何產生EUV（極紫外光） 世上並沒有一種燈泡是EUV燈泡，所以需要特殊方法來產生。相信這樣講印象可能不深刻，直接上一部幾十秒的影片讓大家知道CPU及GPU在處理圖像時的差異： 很直观的视频演示CPU和GPU的算力差别，不过没介绍原理 pic.twitter.com/YBlcx2BFfz — 宝玉 (@dotey) July 25, 2023 後來，NVIDIA發現晶片不只適用於繪圖業，其強大的平行處理功能還打開了一個龐大的新市場：AI運算。
要發明超高功率的雷射、要射的準、要有可以承受50萬度的器械等等。快速說明一下讓大家理解CPU跟GPU的差異： CPU（中央處理器）就像一個經理，他能同時處理很多不同的工作，這些不同的工作需要同時處理時，經理可以處理的很快。（很常當機就是了） 想到NVIDIA就會想到最著名的顯示卡，當初有鑑於對圖像顯示的重視，NVIDIA設計了能夠處理3D圖形的晶片，也就是圖形處理器（Graphics Processor Unit，簡稱GPU）。每一片晶片越來越小、越來越難做（成本越高），然後大量新的應用需求被打開，所以成本是指數級增加的。
因此，捨棄設計晶片這個業務，台積電就當一個專屬的印刷廠，別的晶片公司不怕台積電偷走自己的想法，比起三星這樣設計兼製作晶片的公司，台積電一定更值得信任。從兩個步驟來看到底這台機器多複雜
這些圍繞台積電的上下游公司也許會彼此競爭，但因沒有廠商生產晶圓，所以沒有一家跟台積電競爭，台積電也因此手握「為這些公司制定晶片製作標準和協議」的權力。而且這個的精準度相當於在地球上拿著手電筒照到月球上的10圓硬幣一樣難。
要發明超高功率的雷射、要射的準、要有可以承受50萬度的器械等等。如何產生EUV（極紫外光） 世上並沒有一種燈泡是EUV燈泡，所以需要特殊方法來產生。製作反射鏡的是全球最頂尖的光學公司「德國蔡司」，蔡司開發了一種由100層的鉬和矽交替製成的鏡子，每層都只有幾奈米厚。2. 記憶體晶片：DRAM和快閃記憶體（NAND）。即使在金融危機的2009至2010年，仍然增加了數十億美元的支出，只為了搶下並保持這個市場的龍頭地位，事後也證明了張忠謀是對的。每一片晶片越來越小、越來越難做（成本越高），然後大量新的應用需求被打開，所以成本是指數級增加的。
然後用雷射照射那顆錫球兩次，第一次是加熱它，第二次是以約 50萬度的溫度（太陽表面溫度的好幾倍）把它轟擊成電漿體。快速說明一下讓大家理解CPU跟GPU的差異： CPU（中央處理器）就像一個經理，他能同時處理很多不同的工作，這些不同的工作需要同時處理時，經理可以處理的很快。
但原本傳統方法紫外線能達到的波長最小就在248奈米或是193奈米，要向上突破只能寄希望於13.5的極紫外光上。所以像是挖礦或是遊戲的超高畫質顯示，交給GPU的效率跟CPU可以說是天壤之別。
NAND則是長時間記憶資料。我：「阿…阿？影片看起來不難阿，原來這麼難。
前情提要 幫大家重溫一下重點項目，上一篇提到，張忠謀為什麼創立台積電的遠見： 因為每一代晶圓的技術進步，都會堆高晶圓廠的成本。光是為了讓雷射室的氣體不被錫滴本身的反光干擾，加上要讓雷射順利離開雷射室，廠商花了10年才克服這項挑戰。這種轟擊錫滴的過程，每秒重複5萬次，就能產生製造晶片所需的EUV量。但是，張忠謀看準了智慧型手機晶片的發展，他篤定這一波一定是個大機會，他裁掉了蔡力行，重新招回那些被蔡力行裁掉的員工。
在上一篇的「光刻技術的地位」這個小節提到，光刻技術的關鍵在於光的波長，波長就像刀片的鋒利程度。作者製作提供 金融危機小故事 2008年金融危機時，蔡力行（張忠謀欽點繼任者）做了一件幾乎CEO都會做的是：「裁員及削減成本」。
為了產生足夠的EUV，需要用雷射粉碎一個小顆的錫球。台積電出現，也造就了一個大晶片時代。
NVIDIA就是受惠於台積電的無晶圓廠模式，NVIDIA只需要設計晶片，台積電就會製造出來。GPU（圖形處理器）就像工廠的工人，專門做重複或特定的工作，執行起來效率特別特別高。
如今建立一間先進的邏輯晶片廠至少需要200億美元，很少公司能夠負擔。超複雜的機器：EUV曝光機 （配圖來源：ASML）作者製作提供 這個介紹在書中只有用一個篇章（第39章），卻盡顯了為什麼ASML的重要以及製造EUV曝光機如此困難。多小呢？ 發射一個直徑為3000萬分之1米的小錫球，使它以時速約200英里的速度穿過真空。因此，捨棄設計晶片這個業務，台積電就當一個專屬的印刷廠，別的晶片公司不怕台積電偷走自己的想法，比起三星這樣設計兼製作晶片的公司，台積電一定更值得信任。
如何將EUV光反射到矽晶片上 聽起來很簡單，但一樣是難到爆的事。在讀這本書之前，我一直有個大問題，相信也是讀者會有的問題，那就是：中國沒辦法自己製造最先進的晶片嗎？為什麼近幾年總是被美國掐脖子？ 看完EUV曝光機的發展就會有頭緒了。
波長越短，就可以「刻畫」出更小和更精細的光刻圖案，就像更鋒利的刀刻出更精細的圖案一樣，可以製作出更小、更密集的電路。NVIDIA的誕生 1993年，黃仁勳等人創立了NVIDIA。
（很常當機就是了） 想到NVIDIA就會想到最著名的顯示卡，當初有鑑於對圖像顯示的重視，NVIDIA設計了能夠處理3D圖形的晶片，也就是圖形處理器（Graphics Processor Unit，簡稱GPU）。」 剛剛才要從地球照手電筒到月球的10圓硬幣上而已，現在又要透過鏡子反射回地球的高爾夫球上了，看這個有多困難。
